Với sự phát triển của nhu cầu công nghiệp thế giới sau Thế chiến II, công nghệ phủ hồ quang cathode đã được tiếp tục nghiên cứu phát triển. Nguồn plasma Arc DC được phát triển. Đặc biệt quan trọng là các bằng sáng chế của Snaper và Sablev và các đồng nghiệp vì chúng mô tả thiết kế cơ bản của những bộ nguồn này trong những năm kế tiếp và được sử dụng bởi các công ty hàng đầu như MultiArc. Trong khi các nguồn DC trở thành "yếu tố làm việc" cho các ứng dụng tráng phủ bề mặt, các bộ nguồn xung cũng được phát triển và nghiên cứu, ví dụ như của Gilmour và Lockwood .

Những năm 1960 và 1970 được đặc trưng bởi một số cải tiến quan trọng của các kỹ thuật thực nghiệm áp dụng cho nghiên cứu hồ quang chân không cathode. Các báo cáo định kỳ mô tả các plasma hồ quang cathode với nhiều đặc tính năng lượng đã được xuất bản bởi Kesaev , Plyutto và người cùng nghiên cứu , Davis và Miller và Lunev và các đồng nghiệp . Daalder đã kiểm tra  một cách có hệ thống kích thước và phân bố góc phát xạ của các hạt macro. Jüttner và các đồng nghiệp cho thấy ảnh hưởng của điều kiện bề mặt catốt đối với sự xuất hiện và phân loại điểm catốt. Những cuốn sách đầu tiên xuất hiện dành riêng cho khoa học và công nghệ của việc phóng điện cathode .

Tại Liên bang Xô viết những năm 1970 và 1980, công nghệ hồ quang được công nhận là "công nghệ then chốt", và kết quả của quyết định chính trị này là hàng ngàn máy bốc hơi hồ quang được xây dựng và một số lượng lớn các nhà nghiên cứu và kỹ sư được đào tạo về công nghệ hồ quang, hệ quả cho đến ngày hôm nay. Rất nhiều thiết bị phủ màng kim loại thương mại được cấp bằng sáng chế và ngày nay có nguồn gốc từ công nghệ trước đây của Liên Xô.

Một nhóm nghiên cứu ở Kharkov, Ukraine, là một phần của Liên Xô lúc đó, đã phát triển hệ thống hồ quang được lọc đầu tiên . Nó bao gồm một ống lớn 90 ° với một cuộn dây từ xung quanh nó. Thiết kế cổ điển và các dẫn xuất của nó đã được một nhóm nghiên cứu và nhiều công ty sử dụng . Với việc phát minh ra các bộ lọc hạt macro, những bộ phim có chất lượng cải tiến đáng kể có thể được lưu giữ.

Quay trở lại cách tiếp cận ứng với hồ quang catot,  cần bao gồm việc sử dụng plasma hồ quang catot  để ăn mòn ion bởi quá trình phún xạ. Münz và các đồng nghiệp đã giới thiệu công nghệ Arc Bond Sputtering (ABS) như một sự kết hợp của việc ăn mòn bằng ion với plasma hồ quang cathode và lắng đọng bằng sự phún xạ điện từ. Siemroth, Scheibe, và những người khác đã phát triển một hệ thống hồ quang được kích hoạt bởi laser (Laser Arc) cho việc lắng đọng các hạt hợp kim các bon và kim cương. Năm 1995, Boxman, Sanders và Martin đã xuất bản cuốn Cẩm nang về Khoa học và Công nghệ Ống hút chân không đã trở thành tiêu chuẩn trong lĩnh vực này. Gần đây, phát triển hiện đại nhằm mục đích hoàn thiện các bộ lọc hạt macro, lớp phủ bề mặt lớn, sự phát triển của các hệ thống vật liệu phủ tốt hơn, đặc biệt là các hệ thống nhiều lớp và hợp kim, và sự xâm nhập của các lĩnh vực công nghệ cao như phương tiện truyền thông từ tính, hệ thống cơ điện tử (MEMS) chất bán dẫn, nhiều ngành nghề cần được cải thiện bề mặt để đạt được chất lượng mong muốn , công nghệ PVD đã phát triển vượt bậc và ngày càng ứng dụng rộng rãi trong công nghiệp phụ trợ ,công nghiệp tiêu dùng, công nghiệp truyền dẫn ánh sang , công nghiệp chế tạo máy …..

Mọi chi tiết xin liên hệ:

CÔNG TY TNHH PVD VIỆT MỸ - VIUS

Website: www.pvdvietmy.vn  

 Email: tuyennv@tdcorp.vn.phone: 0919.460.242

Nhà máy: 1/476 Tổ 1, Hòa lân 2, Thuận Giao, Thuận An, Bình Dương

ĐT: 0650. 3710 305  -  DĐ: 0919.460.242 (Mr. Tuyển)

Các bài khác

• »   5 yếu tố quyết định lớp mạ PVD (01/10/2024)
• »   video nguyen ly ma pvd -ma chan khong (02/01/2020)
• »   Giới thiệu về công ty việt mỹ - Trung dũng (05/08/2017)
• »   Quy trình khép kín từ gia công khung kim loại, mạ PVD (27/11/2017)
• »   PVD có ứng dụng gì ? (10/12/2016)